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光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)FilmOpt是基于反射膜厚技術(shù)的用于檢測薄膜厚度的設(shè)備；通過分析薄膜表面反射光和薄膜與基底界面反射光相干涉形成的反射譜，快速準(zhǔn)確測量薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)等信息。
此外，我們提供基于該設(shè)備的膜厚和n&k測量服務(wù)。無論是單層膜還是多層膜，我們均可應(yīng)對多種材料類型的測量需求。如有相關(guān)測量需求，歡迎通過郵件聯(lián)系訊技光電技術(shù)支持團隊：support@infotek.com.cn。
產(chǎn)品特點
■ 測量范圍廣；
■ 非接觸、非破壞測量；
■ 核心算法支持薄膜到厚膜、單層到多層薄膜分析；
■ 節(jié)省空間、配置靈活、支持定制化
主要規(guī)格
*取決于材料
系統(tǒng)特色
超寬量程·納米級精度
• 1nm~260μm 全覆蓋，薄膜至厚膜一機搞定
• ＜0.02nm重復(fù)精度，滿足半導(dǎo)體/光電領(lǐng)域嚴(yán)苛要求
硬核技術(shù)雙驅(qū)動
• 高信噪比光譜儀：抗干擾強，數(shù)據(jù)更真
• 智能算法（FFT+AI擬合）：復(fù)雜膜層 3秒解析，結(jié)果穩(wěn)定可靠
極簡高效 · 靈活部署
• 一鍵測量，3秒出結(jié)果：零學(xué)習(xí)成本，適配產(chǎn)線高頻檢測
• 小型模塊化設(shè)計：體積減 40% 支持?jǐn)U展，省空間易升級，F(xiàn)ilmOpt Standard尺寸僅226mm*256mm*76mm
經(jīng)典案例
不同膜類展示
測試項目承接：膜厚及nk測試需求
本服務(wù)基于高級版光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)，聚焦光學(xué)薄膜、涂層等高精度厚度檢測，為光電子、顯示、光學(xué)器件等領(lǐng)域提供符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的專業(yè)測試解決方案，適配研發(fā)驗證、生產(chǎn)質(zhì)控、產(chǎn)品合規(guī)等全場景需求。
服務(wù)核心特點
測量原理先進：采用光譜反射等光學(xué)檢測技術(shù)，無接觸、無損傷，避免對膜層及基材造成破壞。
精度與分辨率高：可實現(xiàn)納米級精準(zhǔn)測量，支持單層、多層光學(xué)膜的厚度及n&k值檢測，數(shù)據(jù)準(zhǔn)確度高。
適配場景精準(zhǔn)：針對光學(xué)膜（如增透膜、偏光膜、濾光膜）、金屬涂層等，兼容玻璃、硅材料等光學(xué)基板。
測量精度對比
研發(fā)意義
近年來隨著光學(xué)行業(yè)的發(fā)展，光學(xué)薄膜測試的需求持續(xù)增長。在半導(dǎo)體、光伏、顯示面板、精密涂層等核心產(chǎn)業(yè)快速升級的背景下，膜厚測量作為生產(chǎn)質(zhì)控、研發(fā)創(chuàng)新的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，面臨著“高精度與低成本難以兼顧” “測量效率與膜層兼容性矛盾”“無損檢測需求迫切” 三大核心痛點。傳統(tǒng)測量設(shè)備或存在精度不足（誤差超 ±5%）、或依賴破壞性檢測（如切片法）、或?qū)δ硬馁|(zhì)（如透明 / 非透明、單層 / 多層）、表面狀態(tài)（如粗糙 / 光滑）要求苛刻，且高端設(shè)備價格昂貴，中小制造企業(yè)難以負(fù)擔(dān)。
為此，訊技光電提出的 “光學(xué)膜厚測量系統(tǒng)” 的研發(fā)核心意義在于：以 “高性價比” 打破高端設(shè)備壟斷，以 “精準(zhǔn)無損” 解決行業(yè)檢測痛點，以 “高效兼容” 適配多元應(yīng)用場景。設(shè)備采用先進光學(xué)干涉原理，實現(xiàn) 1nm或0.2% 的測量精度，滿足納米級膜厚檢測需求；全程非接觸式測量，避免對膜層造成損傷；測量速度大幅提升（單點位測量1秒左右），根據(jù)定制需求可進行樣本連續(xù)檢測，大幅提升生產(chǎn)效率；同時兼容金屬膜、介質(zhì)膜等多種材質(zhì)，對膜層要求低，無需復(fù)雜預(yù)處理，真正實現(xiàn) “即放即測”。通過技術(shù)創(chuàng)新，讓各類規(guī)模企業(yè)都能以小成本獲得高端檢測能力，助力產(chǎn)業(yè)提質(zhì)增效、降低生產(chǎn)成本。
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